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Revestimento em ALD de partículas de tamanho micro e nano
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O deposito de capas atómicas (ALD) está a deixar de ser simplesmente uma ferramenta de investigação para o revestimento de substratos porosos e particular e a tornar-se numa ferramenta de produção industrial fiável para uma série de produtos específicos, onde se incluem os catalisadores heterogéneos, nano-partículas para materiais compostos de polímeros e cargas térmicas para a electrónica. Nas baterias de iões de lítio, por exemplo, o ALD é utilizado para várias aplicações. A Beneq tem o prazer de estar na vanguarda deste desenvolvimento, conseguindo servir os seus clientes nesta área de alta tecnologia que está a crescer a um ritmo impressionante.
A combinação de revestimentos de elevada qualidade de partículas porosas e substratos cria oportunidades sem precedentes para modificar, por exemplo, as propriedades de difusão de materiais. O ALD tem tecnologia comprovada que realmente estimula e facilita o revestimento de partículas, e é um método comprovado nas seguintes aplicações:
- Fixação de partículas micro e nanométricas num substrato
- Aplicação de barreiras de difusão e corrosão de superfícies metálicas
- Passivação de superfícies
- Adaptação da composição dos materiais porosos
- Dopagem de material poroso "bulk"
Devido ao mecanismo de crescimento "bottom-up" (ascendente) da película de ALD, a maioria dos revestimentos são naturalmente livres de poros. Esta característica é especialmente útil em aplicações e barreira de passivação. É importante salientar que é possivel conseguir mais melhorias nas propriedades de barreira sob uma espessura tão baixa como 10nm.
