Inicio > Productos > Nanotecnología > Depósito asistido por plasma (PECVD) > PECVD loadlock system SI 500 PPD > Solicitar información

PECVD loadlock system SI 500 PPD

Ofrece una variedad de procesos de deposición de plasma estándar. SiO2, SiNx, SiOxNy, y a-Si se pueden depositar con el plasma por acoplamiento capacitivo.

()
Ej.: 34 Ej.: 915679700



.Política de Privacidad:
Al rellenar y enviar el presente formulario de contacto, concede su consentimiento inequívoco para el almacenamiento de sus datos en nuestros ficheros con las finalidades indicadas en la política de privacidad. El envío del presente formulario implica la aceptación de la misma.




Álava Ingenieros utiliza cookies propias para ofrecerle un mejor servicio. Si continúa navegando, consideramos que acepta su uso.