PECVD direct loading system Depolab 200
Combina a carga directa mais eficaz com a fonte de plasma de placas paralelas num design básico e compacto. O sistema inteligente PECVD pode ser actualizado a pedido para melhorar o seu desempenho.
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Rentabilidade
O sistema Plasma PECVD Depolab 200 combina um design da fonte de plasma de placas paralelas com a carga directa.
Capacidade de actualização
De acordo com o seu design modular, o PECVD Depolab 200 é actualizável para uma unidade de maior bombagem, potência eléctrica de baixa frequência e linhas de gás adicionais.
Software de controlo SENTECH
Software potente, fácil de utilizar com interface gráfica de utilizador GUI, janela de parâmetros, editor de receitas, registo de dados, gestão de utilizadores,...
O Depolab 200 é a ferramenta básica PECVD da SENTECH que combina as vantagens de um design de eléctrodos de placas paralelas para a deposição de películas uniformes com o baixo custo e design eficaz da carga directa. Começando por aplicações standard em pastilhas de 2" a 8" e peças de amostra, podendo ser actualizado passo a passo para um processamento mais complexo.
