Depósito de Capas atómicas (ALD)
A Beneq é um fabricante líder de equipamento para investigação e produção para ALD em camadas finas e revestimento tipo aerossol. Os seus sistemas são utilizados para aplicações muito diversificadas, como revestimentos em células solares, electrónica flexível, endurecimento de vidros e muitas outras que vão surgindo.
A Beneq desenvolveu revolucionárias inovações nas suas técnicas de revestimentos, incluindo depósitos em camadas atómicas em rolo e revestimentos tipo aerossol de alto desempenho. Também fornece serviços de revestimentos, para pequenas ou grandes produções a nível científico ou industrial.
Com os seus revestimentos de alta qualidade em ciclos extremamente curtos no tempo, podemos disponibilizar-lhe uma grande diversidade de equipamentos, sejam ferramentas puramente para equipamentos de investigação para aplicações industriais, resultado do trabalho conjunto com os futuros utilizadores destes sistemas.
Produtos de esta categoria
TFS 200
Para investigação ALD, com plasma CCP superior, incluindo a opção Particle ALD.
TFS 200R: Investigação ALD espacial
O TFS 200R é utilizado exclusivamente para depositar películas finas em substratos flexíveis.
TFS 500: Sistema ALD de lotes multi-usos
Sendo o primeiro modelo de reactor Beneq, demonstrou ser uma ferramenta versátil.
TFS 600: Sistema ALD de lotes, até 400x500mm
Sendo o primeiro modelo de reactor da Beneq, demonstrou ser uma ferramenta versátil.
TFS 1200: Sistema ALD de lotes, até 1200x1200mm
Sistema específico concebido para a produção industrial na linha de revestimentos de camadas.
TFS NX300: Sistema ALD de grande volume de lotes
O Beneq TFS NX300 é um sistema concebido especificamente para a produção industrial totalmente automatizada.
P400A e P800, Sistemas ALD multi-usos de lotes
Os sistemas do nosso parceiro tecnológico Beneq, P400A e P800, são sistemas ALD concebidos para a produção à escala industrial.
Sistemas ALD
Os sistemas de depósito de camada atómica SENTECH podem ser assistidos por plasma ou térmicos. Estes sistemas podem ser configurados para o depósito de óxidos, nitratos e metais. As estruturas 3D o...
Sistemas ALD monitorizados em tempo real
Uma das principais aplicações destes equipamentos é a realização de análises de propriedades da película (taxa de crescimento, a espessura, índice de refracção) sem romper o vácuo, desenvolvimento de ...
