Sistemas ALD monitorizados em tempo real
Uma das principais aplicações destes equipamentos é a realização de análises de propriedades da película (taxa de crescimento, a espessura, índice de refracção) sem romper o vácuo, desenvolvimento de novos processos num curto espaço de tempo e o estudo dos mecanismos de reação durante cada um dos ciclos em tempo real.
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O ALD da SENTECH monitorizado em tempo real é uma novíssima ferramenta óptica de diagnóstico que permite ultra-alta resolução de cada ciclo ALD.
Desenvolvimento de processos eficientes e optimizados
Os processos ALD são rápidos e facilmente desenvolvem e optimizam o uso dos ciclos individuais ALD. O sistema ALD monitorizado em tempo real mostra a a absorção e dessorção em ultra-alta resolução (40 ms). Poupa-se em tempo de desenvolvimento, em substractos, precursores e em gases.
Poupança do percursor
O processamento ALD torna-se mais eficiente com este equipamento após a optimização. Poupa-se o percursor e o tempo de processamento.
Controlo dos percursores
Este equipamento detecta quando o fornecimento do percursor está a acabar, indicado por uma mudança no ciclo de crescimento que está a ser monitorizado.
O ALD da SENTECH monitorizado em tempo real é uma novíssima ferramenta óptica de diagnóstico que permite ultra-alta resolução de cada ciclo ALD. Uma das principais aplicações destes equipamentos é a realização de análises de propriedades da película (taxa de crescimento, a espessura, índice de refracção) sem romper o vácuo, desenvolvimento de novos processos num curto espaço de tempo e o estudo dos mecanismos de reação durante cada um dos ciclos em tempo real.
Especialmente concebido para o desenvolvimento de processos rápidos e eficientes e a optimização dos sistemas de depósito de camadas atómicas da SENTECH. O software permite um manuseamento fácil dos sistemas ALD SENTECH e ALD monitorizado em tempo real.
