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Sistemas ALD monitorizados em tempo real

Uma das principais aplicações destes equipamentos é a realização de análises de propriedades da película (taxa de crescimento, a espessura, índice de refracção) sem romper o vácuo, desenvolvimento de  novos processos num curto espaço de tempo e o estudo dos mecanismos de reação durante cada um dos ciclos em tempo real.

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