Equipamento para processamento

EasyCrystal

Forno tipo vertical (Bridgman) para crescimento de cristais: contém dois subsistemas controlados independentemente e situados em configuração vertical, chamados forno de "Fusão" e de "Crescimento". Ambos os fornos têm a capacidade de funcionar com temperaturas que vão desde a temperatura ambiente até 1200°C e ajustáveis em aumentos de 1°C, estando incluído um software de controlo de processamento para o controlo em tempo real, display de dados, criação de fórmulas e edição.  

EasyGraphene

Soluções para I+D e produção, permite o fabrico de grafeno de 50mm a 300mm em diversos substractos (pastilhas, folhas, rolo).

EasyTube 101

Sistema simples e de baixo custo para investigação e desenvolvimento, tanto nos Centros de Investigação como na Industia, e é composto por uma plataforma modular com até 8 linhas de entradas de gases, das quais três podem ser configuradas para fontes sólidas ou líquidas, e podem ser configuradas para processos tanto em vácuo como a temperatura atmosférica. Está configurado para realizar um grande número de processos como nanotubos de carbono, grafeno, nanotubos, APCVD, LPCVD, epitaxial, óxidos, nitritos, fusão, difusão, infiltração de vapores químicos, ALD, etc; utilizando diferentes combinações de percursores de gases e líquidos.

EasyTube 2000

Ferramenta de deposição química (CVD) para nanotubos de carbono, grafeno e nanocabos que, com os sistemas de controlo HotLoad e FastCool, permite o aquecimento e o arrefecimento rápido das amostras o que permite uma melhor qualidade no SWCNT e grafeno, podendo o processo ser concluído numa hora.

EasyTube 3000

Sistema de deposição química e tratamento térmico (CVD) que consegue sintetizar uma grande quantidade de nanoestruturas e películas finas como o SW/MWCNT, grafeno, nanocabos como o Si, Ge, ZnO, GaN, Bn e películas finas Si, SiO2 e Si3N4 utilizando uma combinação de hidretos, líquidos e percursores sólidos e pode ser configurado para aplicações de tratamento, selecção e/ou sulfuração.

EasyTube 4000

PECVD para nanomateriais e depósitos em camada fina, optimizado para o desenvolvimento do processo controlado e segurança do utilizador, com temperaturas até 1100°C e tamanho de placas até quatro polegadas (101.6mm).

EasyTube 5000

MOCVD para uma vasta variedade de camadas II-V, II-VI e IV, capaz de depositar em placas até 150mm de diâmetro.

EasyTube 6000

Forno horizontal multicamada de quatro tubos para LPCVD, CNT, reforço, difusão e oxidação e configurado para funcionar tanto em pressão atmosférica como em vácuo.

EasyTube 8000

O Sistema de armazenamento de produtos químicos para o reactor de leito fluidizado por aquecimento através da indução RF é uma unidade controlada automaticamente e concebida para funcionar a temperaturas até 800°C ou 1500°C.