RIE plasma etcher SI591 compact
Para uma grande variedade de processos reproduzíveis com base em cloro e flúor com bloqueio de carregamento a vácuo e através de um processamento totalmente controlado por computador. De pequenas dimensões e design flexível para RIE.
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Flexibilidade do processo
O RIE SI 591 é um equipamento compacto que facilita um grande numero de processos de registo por plasma com base em cloro e flúor.
Pequeno e de grande modularidade
O SI591 compact pode ser configurado como único reactor ou como ferramenta cluster com carregamento "tape-to-tape".
Software de controlo SENTECH
As nossas ferramentas de registo de plasma incluem um potente software de fácil utilização, com interface gráfico de utilizador GUI, janela de parâmetros, editor de receitas, registo de dados e gestão de utilizadores.
O SI591 compact combina as vantagens de um design de eléctrodos de placas paralelas de RIE com as condições de processamento de registo totalmente controladas pelo computador do sistema de carregamento fechado. O SI591 compact pode ser configurado para o processamento de uma variedade de materiais. A SENTECH fornece diferentes níveis de automatização que vão desde o carregamento a vácuo com uma câmara de processamento até um conjunto de seis portas com diferentes módulos de registo e deposição com uma grande flexibilidade ou alto rendimento. Também disponível como um módulo de processamento de uma configuração cluster.
