PECVD loadlock system SI 500 PPD
Fornece uma variedade de processos de deposição de plasma standard. SiO2, SiNx, SiOxNy e a-Si podem ser depositados com o plasma por acoplamento capacitivo.
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Flexibilidade do processo
A ferramenta de depósito PECVD SI 500 PPD facilita os processos standard para o CVD de SiO2, SiNx, SiOxNy e a-Si num intervalo de temperatura de RT a 350ºC.
Câmara de pré-carga a vácuo
O SI 500 PPD tem uma unidade de pré-carga de vácuo seco sem óleo, maior rendimento, que assegura uma limpeza dos processos químicos do CVD.
Software de controlo SENTECH
Este equipamento está equipado com um potente software fácil de utilizar com interface gráfico de utilizador, mímica GUI, janela de parâmetros editor de receitas, registo de dados e gestão de utilizadores.
O SI 500 PPD representa uma ferramenta avançada para o depósito PECVD de película dieléctricas, a-Si, SiC e outros materiais. É baseada numa fonte de plasma capacitiva acoplada, carga fechada a vácuo, eléctrodo de substrato com temperatura controlada, baixa frequência opcional e sistema de vácuo sem óleo totalmente controlado.
