Início > Produtos > Nanotecnologia > Depósito assistido por plasma > PECVD loadlock system SI 500 PPD > Solicitar informação

PECVD loadlock system SI 500 PPD

Fornece uma variedade de processos de deposição de plasma standard. SiO2, SiNx, SiOxNy e a-Si podem ser depositados com o plasma por acoplamento capacitivo.

()
Ex.: 351 Ex.: 214217472



.Política de Privacidad:
Ao preencher e enviar o formulario de contacto, dá o seu consentimento inequívoco para o armazenamento dos seus dados nos nossos arquivos com as finalidades indicadas na política de privacidade. O envio do presente formulario implica a aceitação da mesma.




A MRA Instrumentação utiliza política de cookies. Se continuar a navegar, consideramos que aceita a sua utilização.